光学的な手法（反射法）によって、タフエース膜厚を測定します。
従来の方法では難しかった、製品基板上の皮膜の品質管理が可能です。

特長

1. 量産基板上のタフエース膜厚を非破壊で測定可能です。
2. 任意エリアでのタフエース膜厚の分布を表示できます。
3. コンパクトな装置設計です。
4. 短時間かつ簡単な操作で量産基板の測定が可能です。

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測定メカニズム

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装置概要

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